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PECVD设备-公开招标公告

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招标公告 1. 招标条件本招标项目PECVD设备招标人为北京无线电测量研究所，招标项目资金来自自筹资金。该项目已具备招标条件，现对PECVD设备采购进行国内公开招标。 2. 项目概况与招标范围 2.1 招标编号：ZKX20240101A007 2.2招标项目名称：PECVD设备。 2.3 数量：1台。 2.4 项目概述：PECVD设备主要用于氧化硅、氮化硅膜的沉积。 2.4.1 可生长SiO2、Si3N4； 2.4.2 适用基片尺寸：150mm（6吋）Notch wafer；100mm（4吋）Flat Wafer。 2.5 交货地点：用户成都项目现场。 2.6 交货期：合同签字生效后10个月货到用户成都项目现场。 3. 投标人资格要求 3.1 投标人须为具有独立承担民事责任能力的在中华人民共和国境内注册的法人或其他组织，具备有效的营业执照或事业单位法人证书或其它营业登记证书。 3.2投标人须提交开标前三个月内其基本帐户开户银行出具的资信证明原件。...

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